化工業uv光(guāng)催化氧化(huà)淨化(huà)設備采(cǎi)用(yòng)高(gāo)強度納(nà)米紫外綫破(pò)壞(huài)，分(fēn)解(jiě)大(dà)分子鏈為(wéi)小分(fēn)子鏈(liàn)，再(zài)利用臭氧和羥基(jī)自由(yóu)基(jī)氧(yǎng)化，催(cuī)化劑進行催化氧化(huà)，使有機物變(biàn)為(wéi)水和二(èr)氧化碳(tàn)，以(yǐ)達(dá)到去(qù)除有(yǒu)機物(wù)的目的。
| 品牌 | 境(jìng)壹(yī)淨(jìng) | 加(jiā)工定製(zhì) | 是(shì) |
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化(huà)工業(yè)uv光催化(huà)氧化淨化(huà)設(shè)備采用高強(qiáng)度納(nà)米紫(zǐ)外綫破壞，分解大分子(zǐ)鏈為小分子鏈，再利用臭氧和(hé)羥基自由基氧化，催(cuī)化劑進(jìn)行催化氧化(huà)，使有(yǒu)機(jī)物變為水和(hé)二氧化碳，以(yǐ)達到去除(chú)有機物(wù)的目的。
UV光(guāng)解(jiě)氧(yǎng)催化(huà)淨化無需添加任何物質(zhì)：隻(zhī)需(xū)要設置相應的(dí)排風管道和(hé)排風動(dòng)力，使氣(qì)體(tǐ)通過本設備進行(háng)脫(tuō)臭分解淨(jìng)化(huà)，無(wú)需(xū)添(tiān)加任(rèn)何物質參(cān)與化學反(fǎn)應(yīng)。可(kě)適(shì)應(yīng)高濃度，大氣量，不(bù)同有機(jī)化(huà)學氣(qì)體(tǐ)物(wù)質(zhì)的淨(jìng)化(huà)處(chǔ)理，可每(měi)天可長時間連續工(gōng)作，運行穩定可靠。
由於半(bàn)導體(tǐ)的光(guāng)吸收(shōu)閾(yù)值與(yǔ)帶(dài)隙具(jù)有式K=1240/Eg(eV)的關係,因此(cǐ)常(cháng)用的寬(kuān)帶隙半導(dǎo)體的(dí)吸(xī)收波(bō)長(cháng)閾值大都在紫外(wài)區(qū)域。當(dāng)光子(zǐ)能量高於半(bàn)導(dǎo)體吸收閾值的光照(zhào)射半導體(tǐ)時,半導(dǎo)體(tǐ)的價帶(dài)電子發(fā)生(shēng)帶間躍遷,即從(cóng)價帶躍遷到(dào)導帶(dài),從而(ér)產生光(guāng)生(shēng)電子(e-)和空穴(h+)。此時(shí)吸(xī)附(fù)在納(nà)米顆粒(lì)表麵(miàn)的溶解氧俘獲電子形成(chéng)超(chāo)氧負(fù)離(lí)子,而空穴將吸附(fù)在催化劑(jì)表麵的(dí)氫(qīng)氧(yǎng)根離子(zǐ)和(hé)水氧化成氫氧自(zì)由基。而(ér)超氧(yǎng)負離(lí)子和氫氧(yǎng)自(zì)由基(jī)具(jù)有很強(qiáng)的氧化(huà)性,能將(jiāng)絕(jué)大(dà)多數的有(yǒu)機(jī)物氧化至產(chǎn)物(wù)CO2和(hé)H2O,甚(shèn)至(zhì)對一些無(wú)機(jī)物(wù)也能(néng) 分解。
化工(gōng)業uv光催化氧(yǎng)化(huà)淨(jìng)化設(shè)備UV光解催化氧(yǎng)氣廢氣(qì)處理技(jì)術(shù)設備是以(yǐ)紫外綫光為能(néng)源，配合納米TiO2位催化(huà)劑(jì)，將有機物降解為(wéi)CO2和 H2O及(jí)其它(tā)無(wú)害(hài)成分(fēn)，使廢(fèi)臭氣(qì)體(tǐ)處理(lǐ)後達標排放(fàng)。
uv光催化(huà)氧化(huà)廢氣(qì)處理(lǐ)設(shè)備(bèi)，光(guāng)氧催(cuī)化氧化 利用特製(zhì)的高能高(gāo)臭氧(yǎng)UV紫(zǐ)外(wài)綫(xiàn)光束照射廢(fèi)氣，使有機(jī)或無(wú)機高分子惡(è)臭化(huà)合物(wù)分子鏈，在(zài)高能(néng)紫(zǐ)外綫(xiàn)光(guāng)束照射下，與(yǔ)臭(chòu)氧(yǎng)進(jìn)行反(fǎn)應(yīng)生成(chéng)低分子化合(hé)物，如CO2，H2O等。投資費(fèi)低，適用範圍廣(guǎng)，淨化效率高(gāo)，操(cāo)作簡(jiǎn)單，除臭(chòu)效(xiào)果(guǒ)好，設備(bèi)運(yùn)行穩(wěn)定(dìng)，占地小，運(yùn)行(háng)費用(yòng)低，隨用(yòng)隨(suí)開(kāi)，不會造成二次(cì)汙(wū)染(rǎn)。
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